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吴汉明院士后摩尔时代的交叉学科怎么与产业互动

发布时间:2021-10-29 14:05:40 所属栏目:资讯 来源:互联网
导读:我们来看看现在把它定义为一个后摩尔时代,我个人觉得如果从摩尔当时的定义,从这两条曲线可以看到,红色的是英特尔的,另外一条是台积电的,我们可以看到从22纳米一路走过来,走到当今英特尔的10纳米,与台积电的7到5个纳米,我们可以看出来,在一个平方毫
 我们来看看现在把它定义为一个后摩尔时代,我个人觉得如果从摩尔当时的定义,从这两条曲线可以看到,红色的是英特尔的,另外一条是台积电的,我们可以看到从22纳米一路走过来,走到当今英特尔的10纳米,与台积电的7到5个纳米,我们可以看出来,在一个平方毫米上的晶体管的数量达到1个亿左右,如果走到7纳米、5纳米就可以到1.7个亿每平方毫米,有1.7亿的晶体管在里面。这说明什么问题呢?说明原来摩尔说的,每两年晶体管的密度要翻一番,在这里显然是做不到的,我们看到两家龙头企业做不到,所以基本上放弃每两年晶体管密度加1倍的提法。所以我个人觉得,这是一个后摩尔时代的重要标志。
 
  另外一个标志,就是制造成本,我们把台积电的数据拿出来看看,我们可以看到在0.13微米到28纳米这个区间,成本的下降是非常厉害的,基本上可以跟随摩尔定律的节奏。但是降到28纳米以后,进入20纳米节点的时候,我们可以看到制造成本的下降就非常艰难了,完全做不到成本下降了,质量不变。所以我觉得这两个应该是后摩尔时代的特征。
 
  后摩尔时代的挑战和机遇是什么呢?我跟大家分享一下,下面是一张网上下载的图,从这张图我们可以看到集成电路的性能提升,从1978年X轴的最左边一直延伸到,这个数据是2018年,我们可以看到在2002年以前,晶体管、集成电路的性能每年提升52%,后来每年可以提升23%,到2010年以后,每年提升12%,但是到2014年以后,我们的性能提升就只有3.5%,所以每年的性能提升已经达到一个饱和的状态,再也不能像以前这样性能提升1倍,就很难持续下去。这是从技术层面来看它应该也是一个后摩尔时代的标志。

(编辑:武陵站长网)

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